Àwọn Wafer SiC 4 inch 6H Semi-Insulating SiC Substrates prime, research, àti qummy grade
Ìsọfúnni Ọjà
| Ipele | Ipele Iṣẹjade MPD odo (Ipele Z) | Ipele Iṣelọpọ Boṣewa (Ipele P) | Ipele D (Ipele D) | ||||||||
| Iwọn opin | 99.5 mm ~ 100.0 mm | ||||||||||
| 4H-SI | 500 μm±20 μm | 500 μm±25 μm | |||||||||
| Ìtọ́sọ́nà Wafer |
Ìpín tí ó wà ní ìsàlẹ̀: 4.0° sí < 1120 > ±0.5° fún 4H-N, Ní ìsàlẹ̀: <0001>±0.5° fún 4H-SI | ||||||||||
| 4H-SI | ≤1cm-2 | ≤5 cm-2 | ≤15 cm-2 | ||||||||
| 4H-SI | ≥1E9 Ω·cm | ≥1E5 Ω·cm | |||||||||
| Ìtọ́sọ́nà Pẹpẹ Àkọ́kọ́ | {10-10} ±5.0° | ||||||||||
| Gígùn Pẹpẹ Àkọ́kọ́ | 32.5 mm±2.0 mm | ||||||||||
| Gígùn Pẹpẹ Keji | 18.0 mm±2.0 mm | ||||||||||
| Ìtọ́sọ́nà Pẹpẹ Atẹle | Ìhà tí ó kọjú sílíkọ́nì sí òkè: 90° CW. láti Prime flat ±5.0° | ||||||||||
| Ìyọkúrò Etí | 3 mm | ||||||||||
| LTV/TTV/Tọfà/Wọpa | ≤3 μm/≤5 μm/≤15 μm/≤30 μm | ≤10 μm/≤15 μm/≤25 μm/≤40 μm | |||||||||
| Ríru | Ojú C | Àwọn ọmọ Poland | Ra≤1 nm | ||||||||
| Ojú Si | CMP | Ra≤0.2 nm | Ra≤0.5 nm | ||||||||
| Ìfọ́ Etí Nípasẹ̀ Ìmọ́lẹ̀ Gíga | Kò sí | Gígùn àpapọ̀ ≤ 10 mm, ẹyọ kan gígùn ≤2 mm | |||||||||
| Àwọn Àwo Hex Nípasẹ̀ Ìmọ́lẹ̀ Gíga | Agbegbe apapọ ≤0.05% | Agbegbe apapọ ≤0.1% | |||||||||
| Àwọn Agbègbè Onírúurú Nípasẹ̀ Ìmọ́lẹ̀ Gíga | Kò sí | Agbegbe apapọ≤3% | |||||||||
| Àwọn Ìfikún Erogba Àwòrán | Agbegbe apapọ ≤0.05% | Agbegbe apapọ ≤3% | |||||||||
| Àwọn Ìfọ́ ojú Silikoni Nípasẹ̀ Ìmọ́lẹ̀ Gíga | Kò sí | Gígùn àpapọ̀ ≤ 1*opin wafer | |||||||||
| Àwọn Ẹ̀kún Etí Gíga Nípa Ìmọ́lẹ̀ Líle | Kò sí èyí tí a gbà láàyè ≥0.2 mm fífẹ̀ àti jíjìn | 5 ni a gba laaye, ≤1 mm ọkọọkan | |||||||||
| Ìbàjẹ́ ojú ilẹ̀ Silikoni nípasẹ̀ agbára gíga | Kò sí | ||||||||||
| Àkójọ | Àwo Ṣẹ́ẹ̀tì Oní-wafer Onírúurú Tàbí Àpótí Wafer Kanṣoṣo | ||||||||||
Àwòrán Àlàyé
Àwọn Ọjà Tó Jọra
Kọ ifiranṣẹ rẹ si ibi ki o fi ranṣẹ si wa






