6inch SiC Epitaxiy wafer N/P iru gba adani

Ilana igbaradi ti wafer silicon carbide epitaxial jẹ ọna ti a lo imọ-ẹrọ Chemical Vapor Deposition (CVD). Awọn wọnyi ni awọn ilana imọ-ẹrọ ti o yẹ ati awọn igbesẹ ilana igbaradi:

Ilana imọ-ẹrọ:

Ìfipamọ́ afẹ́fẹ́ kẹ́míkà: Nípa lílo afẹ́fẹ́ ohun èlò aise ní ìpele gaasi, lábẹ́ àwọn ipò ìṣesí pàtó kan, a máa yọ́ a sì máa fi sínú àpò ìpìlẹ̀ láti ṣe fíìmù tín-ín-rín tí a fẹ́.

Ìṣẹ̀dá ìgbésẹ̀ gáàsì: Nípasẹ̀ ìṣẹ̀dá gáàsì tàbí ìṣẹ̀dá ìfọ́, onírúurú gáàsì aise ní ìpele gáàsì ni a ń yí padà ní ọ̀nà kẹ́míkà nínú yàrá ìṣẹ̀dá.

Awọn igbesẹ ilana igbaradi:

Ìtọ́jú ilẹ̀: A máa ń fọ ilẹ̀ náà kí a sì tún tọ́jú rẹ̀ kí a tó lè rí i dájú pé ó jẹ́ dídára àti pé ó jẹ́ kí ó lẹ́wà.

Ṣíṣàtúnṣe yàrá ìṣesí: ṣàtúnṣe iwọn otutu, titẹ ati oṣuwọn sisan ti yàrá ìṣesí ati awọn paramita miiran lati rii daju iduroṣinṣin ati iṣakoso awọn ipo iṣesí.

Ipese ohun elo aise: pese awọn ohun elo aise gaasi ti a nilo sinu yara iṣe, dapọ ati ṣiṣakoso oṣuwọn sisan bi o ṣe nilo.

Ìlànà ìhùwàpadà: Nípa gbígbóná yàrá ìhùwàpadà, ohun èlò ìfúnni gáàsì náà máa ń ṣe ìhùwàpadà kẹ́míkà nínú yàrá náà láti mú ibi tí a fẹ́ jáde, ìyẹn ni fíìmù silicon carbide.

Ìtútù àti ìtújáde: Ní ìparí ìṣe náà, a máa dín iwọ̀n otútù náà kù díẹ̀díẹ̀ láti tutù kí ó sì mú kí àwọn ohun tí a kó sínú yàrá ìṣe náà lágbára sí i.

Ìmúra wafer epitaxial àti ìmúra wafer lẹ́yìn ìṣiṣẹ́: a máa ń fi ìmúra wafer epitaxial tí a fi pamọ́ sínú rẹ̀, a sì máa ń fi ìṣiṣẹ́ náà lẹ́yìn ìṣiṣẹ́ láti mú kí agbára iná mànàmáná àti opitika rẹ̀ sunwọ̀n sí i.

Àwọn ìgbésẹ̀ àti ipò pàtó ti ìlànà ìpèsè wafer silicon carbide epitaxial le yàtọ̀ síra ní ìbámu pẹ̀lú àwọn ohun èlò àti àwọn ohun tí a nílò. Èyí tí a kọ sílẹ̀ yìí jẹ́ ìṣàn gbogbogbòò àti ìlànà, iṣẹ́ pàtó náà nílò àtúnṣe àti ìṣàtúnṣe gẹ́gẹ́ bí ipò gidi.