Ètò Ìtọ́sọ́nà Wafer fún Ìwọ̀n Ìtọ́sọ́nà Kírísítà

Àpèjúwe Kúkúrú:

Ohun èlò ìtọ́sọ́nà wafer jẹ́ ẹ̀rọ tí ó ní ìlànà ìyípadà gíga tí ó ń lo àwọn ìlànà ìyípadà X-ray láti mú kí iṣẹ́ ìṣẹ̀dá semiconductor àti ìmọ̀ sáyẹ́ǹsì ohun èlò sunwọ̀n síi nípa ṣíṣe ìpinnu àwọn ìtọ́sọ́nà crystallographic. Àwọn èròjà pàtàkì rẹ̀ ní orísun X-ray (fún àpẹẹrẹ, Cu-Kα, 0.154 nm wavelength), goniometer tí ó péye (ìpinnu igun ≤0.001°), àti àwọn ohun tí ń ṣe àwárí (CCD tàbí àwọn olùkà scintillation). Nípa yíyí àwọn àpẹẹrẹ padà àti ṣíṣàyẹ̀wò àwọn àpẹẹrẹ ìyípadà, ó ń ṣírò àwọn àmì crystallographic (fún àpẹẹrẹ, 100, 111) àti àlàfo lattice pẹ̀lú ìṣedéédé ±30 arcsecond. Ètò náà ń ṣe àtìlẹ́yìn fún àwọn iṣẹ́ aládàáṣe, ìfàmọ́ra vacuum, àti yíyípo multi-axis, tí ó bá àwọn wafers 2-8-inch mu fún wíwọ̀n kíákíá ti àwọn egbegbe wafer, àwọn planes ìtọ́kasí, àti ìtòlẹ́sẹẹsẹ fẹlẹfẹlẹ epitaxial. Àwọn ohun èlò pàtàkì ní ìfọwọ́sowọ́pọ̀ silicon carbide, sapphire wafers, àti turbine abẹ́dì ìṣiṣẹ́ gíga-iwọ̀n otutu, tí ó ń mú kí àwọn ohun ìní iná mànàmáná chip àti èso pọ̀ síi ní tààrà.


Àwọn ẹ̀yà ara

Ifihan Ẹrọ

Àwọn ohun èlò ìtọ́sọ́nà wafer jẹ́ àwọn ohun èlò tí ó péye tí a gbé ka orí ìlànà ìfọ́mọ́ra X-ray (XRD), tí a sábà máa ń lò nínú iṣẹ́ ṣíṣe semiconductor, àwọn ohun èlò opitika, àwọn ohun èlò seramiki, àti àwọn ilé iṣẹ́ ohun èlò kirisita míràn.

Àwọn ohun èlò wọ̀nyí ló ń pinnu ìtọ́sọ́nà àwọn ọ̀nà ìdènà kírísítàlì, wọ́n sì ń darí iṣẹ́ gígé tàbí dídán ní pàtó.

  • Awọn wiwọn ti o ga julọ:Ó lágbára láti yanjú àwọn ìpele kirisita pẹ̀lú àwọn ìpinnu igun tí ó dín sí 0.001°.
  • Ibamu apẹẹrẹ nla:Ó ń ṣe àtìlẹ́yìn fún àwọn wafers tó tó 450 mm ní iwọ̀n àti ìwọ̀n 30 kg, ó sì dára fún àwọn ohun èlò bíi silicon carbide (SiC), sapphire, àti silicon (Si).
  • Apẹrẹ modulu:Àwọn iṣẹ́ tó lè fẹ̀ síi pẹ̀lú ìwádìí ìlà ojú ọ̀run, àwòrán àbùkù ojú ilẹ̀ 3D, àti àwọn ẹ̀rọ ìtòjọ fún ṣíṣe àyẹ̀wò onípele púpọ̀.

Awọn ọna ẹrọ imọ-ẹrọ pataki

Ẹ̀ka Àwọn Pàtàkì

Àwọn Ìwọ̀n/Ìṣètò Àṣàrò

Orísun X-ray

Cu-Kα (0.4×1 mm focal spot), folti iyara 30 kV, iṣan ọpọn tube ti a le ṣatunṣe 0–5 mA

Igun Igun

θ: -10° sí +50°; 2θ: -10° sí +100°

Ìgbésẹ̀ tó péye

Ìpinnu igun títẹ̀: 0.001°, wíwá àbùkù ojú ilẹ̀: ±30 arcseconds (ìtẹ̀síwájú gíga)

Iyara Ṣiṣayẹwo

Àwòrán Omega parí ìtọ́sọ́nà gbogbo lattice láàárín ìṣẹ́jú-àáyá márùn-ún; Àwòrán Theta gba ~ ìṣẹ́jú kan

Ipele Àpẹẹrẹ

V-groove, ìfàmọ́ra afẹ́fẹ́, ìyípo igun pupọ, tí ó bá àwọn wafers 2-8-inch mu

Awọn iṣẹ ti o gbooro sii

Ìwádìí ìtẹ̀síwájú, àwòrán 3D, ẹ̀rọ ìtòjọpọ̀, wíwá àbùkù opitika (àwọn ìfọ́, GBs)

Ìlànà Iṣẹ́

1. Ìpìlẹ̀ Ìyípadà X-ray

  • Àwọn ìtànṣán X máa ń bá àwọn nọ́ńbà átọ́míìkì àti àwọn elektírónù ṣiṣẹ́ nínú ìlà krístàlì, wọ́n sì máa ń mú àwọn àpẹẹrẹ ìyàsọ́tọ̀ jáde. Òfin Bragg (nλ = 2d sinθ​​) ló ń darí ìbáṣepọ̀ láàrín àwọn igun ìyàsọ́tọ̀ (θ) àti àlàfo ìlà (d).
    Àwọn ohun tí a ń ṣe àwárí máa ń mú àwọn àpẹẹrẹ wọ̀nyí, èyí tí a ń ṣàyẹ̀wò láti tún ṣe àtúnṣe ìṣètò kirisita.

2. Imọ-ẹrọ Ayẹwo Omega

  • Kírísítálì náà máa ń yípo yípo ní gbogbo ìgbà, nígbà tí àwọn ìtànṣán X-ray bá ń tàn án.
  • Àwọn ohun tí a ń ṣe àwárí máa ń kó àwọn àmì ìyípadà jọ sí oríṣiríṣi àwọn ìpele kirisitalographic, èyí tí ó ń jẹ́ kí a lè pinnu ìtọ́sọ́nà gbogbo láàárín ìṣẹ́jú-àáyá márùn-ún.

3. Ìwádìí Ìtẹ̀síwájú

  • Igun kirisita ti a ti ṣeto pẹlu awọn igun iṣẹlẹ X-ray oriṣiriṣi lati wọn iwọn oke (FWHM), ṣiṣe ayẹwo awọn abawọn lattice ati igara.

4. Iṣakoso Alaiṣiṣẹ

  • PLC ati awọn ifọwọkan iboju ifọwọkan mu ki awọn igun gige ti a ti ṣeto tẹlẹ, esi akoko gidi, ati isọpọ pẹlu awọn ẹrọ gige fun iṣakoso pipade-loop.

Ohun èlò ìtọ́sọ́nà Wafer 7

Awọn anfani ati Awọn ẹya ara ẹrọ

1. Pípéye àti Ìṣiṣẹ́

  • Ìpéye igun ±0.001°, ìpinnu ìwádìí àbùkù <30 arcseconds.
  • Iyara ayẹwo Omega yiyara 200× ju awọn ayẹwo Theta ibile lọ.

2. Ṣíṣe àtúnṣe àti ìyípadà

  • A le fẹ̀ sí i fún àwọn ohun èlò pàtàkì (fún àpẹẹrẹ, àwọn wafer SiC, àwọn abẹ́ turbine).
  • Ó ṣepọ pẹ̀lú àwọn ètò MES fún àbójútó iṣẹ́-ṣíṣe ní àkókò gidi.

3. Ibamu ati Iduroṣinṣin

  • Ó gba àwọn àpẹẹrẹ tí kò ní ìrísí tí ó yẹ (fún àpẹẹrẹ, àwọn ingots sapphire tí ó fọ́).
  • Apẹrẹ ti a fi afẹfẹ tutu ṣe dinku awọn aini itọju.

4. Iṣẹ́ Ọlọ́gbọ́n

  • Ìṣàtúnṣe ìtẹ̀ kan àti ìṣiṣẹ́ iṣẹ́-púpọ̀.
  • Ṣíṣe àtúnṣe-àdáni pẹ̀lú àwọn kirisita ìtọ́kasí láti dín àṣìṣe ènìyàn kù.

Ohun èlò ìtọ́sọ́nà Wafer 5-5

Àwọn ohun èlò ìlò

1. Ṣíṣe Semiconductor

  • Ìtọ́sọ́nà dídín wafer: Ó ń pinnu ìtọ́sọ́nà wafer Si, SiC, GaN fún ìṣiṣẹ́ gígé tó dára jùlọ.
  • Àkójọpọ̀ àbùkù: Ó ń dá àwọn ìfọ́ ojú ilẹ̀ mọ̀ tàbí àwọn ìfọ́ kúrò láti mú kí ìṣẹ́lẹ̀ ërún pọ̀ sí i.

2. Awọn Ohun elo Opitika

  • Àwọn kirisita tí kìí ṣe línẹ́ẹ̀tì (fún àpẹẹrẹ, LBO, BBO) fún àwọn ẹ̀rọ lésà.
  • Àmì ìtọ́kasí ojú ilẹ̀ oníyebíye Sapphire fún àwọn ohun èlò ìpìlẹ̀ LED.

3. Àwọn ohun èlò ìṣẹ́ amọ̀ àti àwọn ohun èlò ìṣọ̀kan

  • Ṣe àtúpalẹ̀ ìtọ́sọ́nà ọkà nínú Si3N4 àti ZrO2 fún àwọn ohun èlò tí ó ní iwọ̀n otútù gíga.

4. Iwadi ati Iṣakoso Didara

  • Àwọn Yunifásítì/àwọn yàrá ìwádìí fún ìdàgbàsókè ohun èlò tuntun (fún àpẹẹrẹ, àwọn alloy entropy gíga).
  • Ile-iṣẹ QC lati rii daju pe o ni ibamu pẹlu ipele.

Awọn iṣẹ XKH

XKH n pese atilẹyin imọ-ẹrọ ti o gbooro fun awọn ohun elo itọsọna wafer, pẹlu fifi sori ẹrọ, iṣapeye paramita ilana, itupalẹ titọka, ati mapping abawọn dada 3D. Awọn ojutu ti a ṣe deede (fun apẹẹrẹ, imọ-ẹrọ stacking ingot) ni a pese lati mu ṣiṣe iṣelọpọ semiconductor ati ohun elo opitika pọ si nipasẹ diẹ sii ju 30%. Ẹgbẹ ti o yasọtọ kan n ṣe ikẹkọ lori aaye, lakoko ti atilẹyin latọna jijin 24/7 ati rirọpo awọn ẹya apoju iyara rii daju pe o gbẹkẹle ẹrọ.


  • Ti tẹlẹ:
  • Itele:

  • Kọ ifiranṣẹ rẹ si ibi ki o fi ranṣẹ si wa