6 inches GaN-On-Sapphire

Àpèjúwe Kúkúrú:

150mm 6inch GaN lórí Silicon/Sapphire/SiC Wafer Epi-layer Gallium nitride wafer epitaxial

Wafer sapphire substrate 6-inch jẹ́ ohun èlò semiconductor tó dára tó ní àwọn fẹlẹfẹlẹ gallium nitride (GaN) tí a gbìn sórí sapphire substrate. Ohun èlò náà ní àwọn ànímọ́ ìrìnnà ẹ̀rọ itanna tó dára gan-an, ó sì dára fún ṣíṣe àwọn ẹ̀rọ semiconductor tó ní agbára gíga àti agbára gíga.


Àwọn ẹ̀yà ara

150mm 6inch GaN lórí Silicon/Sapphire/SiC Wafer Epi-layer Gallium nitride wafer epitaxial

Wafer sapphire substrate 6-inch jẹ́ ohun èlò semiconductor tó dára tó ní àwọn fẹlẹfẹlẹ gallium nitride (GaN) tí a gbìn sórí sapphire substrate. Ohun èlò náà ní àwọn ànímọ́ ìrìnnà ẹ̀rọ itanna tó dára gan-an, ó sì dára fún ṣíṣe àwọn ẹ̀rọ semiconductor tó ní agbára gíga àti agbára gíga.

Ọ̀nà ìṣelọ́pọ́: Ìlànà ìṣelọ́pọ́ náà ní í ṣe pẹ̀lú gbígbin àwọn ìpele GaN lórí ìpìlẹ̀ sapphire nípa lílo àwọn ọ̀nà ìlọsíwájú bíi metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) tàbí molecular beam epitaxy (MBE). Ìlànà ìṣelọ́pọ́ náà ni a ń ṣe lábẹ́ àwọn ipò ìṣàkóso láti rí i dájú pé kristali náà dára tó àti pé fíìmù kan náà ni ó wà.

Àwọn ohun èlò GaN-On-Sapphire 6inch: Àwọn ègé ìṣàpẹẹrẹ sapphire 6-inch ni a lò ní gbígbòòrò nínú ìbánisọ̀rọ̀ makirowefu, àwọn ètò radar, ìmọ̀-ẹ̀rọ alailowaya àti optoelectronics.

Diẹ ninu awọn ohun elo ti o wọpọ pẹlu

1. Amúṣiṣẹ́ agbára Rf

2. Ile-iṣẹ ina LED

3. Ohun elo ibaraẹnisọrọ nẹtiwọọki alailowaya

4. Awọn ẹrọ itanna ni ayika iwọn otutu giga

5. Àwọn ẹ̀rọ optoelectronic

Àwọn ìlànà ọjà

- Ìwọ̀n: Ìwọ̀n ìsàlẹ̀ náà jẹ́ 6 inches (tó tó 150 mm).

- Dídára ojú ilẹ̀: A ti ṣe àtúnṣe ojú ilẹ̀ náà dáadáa láti pèsè dídára dígí tó dára.

- Sisanra: A le ṣe àtúnṣe sisanra ti fẹlẹfẹlẹ GaN gẹgẹbi awọn ibeere kan pato.

- Àpò: A fi àwọn ohun èlò tí kò ní ìyípadà kún ilẹ̀ náà dáadáa láti dènà ìbàjẹ́ nígbà tí a bá ń gbé e lọ.

- Awọn eti ipo: Substrate naa ni awọn eti ipo pato ti o mu ki o rọrun lati ṣe deede ati ṣiṣẹ lakoko igbaradi ẹrọ.

- Awọn paramita miiran: A le ṣatunṣe awọn paramita pato bi tinrin, resistance ati ifọkansi doping gẹgẹbi awọn ibeere alabara.

Pẹ̀lú àwọn ohun ìní ohun èlò tí ó ga jùlọ àti onírúurú ìlò wọn, àwọn wafers onípele 6-inch jẹ́ àṣàyàn tí ó ṣeé gbẹ́kẹ̀lé fún ìdàgbàsókè àwọn ẹ̀rọ semiconductor tí ó ní iṣẹ́ gíga ní onírúurú ilé iṣẹ́.

Sàbìtì

6” 1mm <111> irú p Si

6” 1mm <111> irú p Si

Epi NipọnApapọ

~5um

~7um

Epi ThickUnif

<2%

<2%

Ọrun tẹríba

+/- 45um

+/- 45um

Fífọ́

<5mm

<5mm

BV inaro

>1000V

>1400V

HEMT Al%

25-35%

25-35%

Nínípọn HEMT

20-30nm

20-30nm

Fila Insitu SiN

5-60nm

5-60nm

2DEG conc.

~1013cm-2

~1013cm-2

Ìṣíkiri

~2000cm2/Vs (<2%)

~2000cm2/Vs (<2%)

Rsh

<330ohm/sq (<2%)

<330ohm/sq (<2%)

Àwòrán Àlàyé

6 inches GaN-On-Sapphire
6 inches GaN-On-Sapphire

  • Ti tẹlẹ:
  • Itele:

  • Àwọn Ọjà Tó Jọra

    Kọ ifiranṣẹ rẹ si ibi ki o fi ranṣẹ si wa