Ohun èlò ìtọ́jú wafer fún ṣíṣe wafer Sapphire/SiC/Si 4 Inch-12 Inch

Àpèjúwe Kúkúrú:

Ohun èlò Wafer Thinning jẹ́ ohun èlò pàtàkì nínú iṣẹ́ ẹ̀rọ semiconductor fún dídín ìwọ̀n wafer kù láti mú kí ìṣàkóso ooru, iṣẹ́ iná mànàmáná, àti ìṣiṣẹ́ àpò pọ̀ sí i. Ohun èlò yìí ń lo ìlọ ẹ̀rọ, ìyọ́mọ́ ẹ̀rọ kẹ́míkà (CMP), àti àwọn ìmọ̀ ẹ̀rọ gbígbẹ/ojú omi láti ṣàṣeyọrí ìṣàkóso ìwọ̀n tí ó péye (±0.1 μm) àti ìbáramu pẹ̀lú àwọn wafer 4–12-inch. Àwọn ètò wa ń ṣe àtìlẹ́yìn fún ìtọ́sọ́nà C/A-plane wọ́n sì ṣe àtúnṣe fún àwọn ohun èlò ìlọsíwájú bíi 3D ICs, àwọn ẹ̀rọ agbára (IGBT/MOSFETs), àti àwọn sensọ MEMS.

XKH n pese awọn ojutu kikun, pẹlu awọn ohun elo ti a ṣe adani (iṣiṣẹ wafer 2-12-inch), iṣapeye ilana (iwọn abawọn <100/cm²), ati ikẹkọ imọ-ẹrọ.


Àwọn ẹ̀yà ara

Ilana Iṣiṣẹ

Ilana tinrin wafer naa n ṣiṣẹ nipasẹ awọn ipele mẹta:
Lílọ Líle: Kẹ̀kẹ́ dáyámọ́ǹdì (tóbi grit 200–500 μm) máa ń mú 50–150 μm kúrò ní 3000–5000 rpm láti dín sísanra kù kíákíá.
Lílọ Kéré: Kẹ̀kẹ́ tó rọrùn (tó tóbi tó 1–50 μm) dín sísanra sí 20–50 μm ní <1 μm/s láti dín ìbàjẹ́ tó bá wà ní abẹ́ ilẹ̀ kù.
Ṣíṣe ìmọ́tótó (CMP): Slurry oníkẹ́míkà àti onímọ̀-ẹ̀rọ máa ń mú ìbàjẹ́ tó kù kúrò, ó sì máa ń dé Ra <0.1 nm.

Àwọn Ohun Èlò Tó Báramu

Silikoni (Si): Iwọn boṣewa fun awọn wafers CMOS, ti a ti tẹ si 25 μm fun iṣakojọpọ 3D.
Silikoni Carbide (SiC): Ó nílò àwọn kẹ̀kẹ́ dáyámọ́ńdì pàtàkì (ìwọ̀n dáyámọ́ńdì 80%) fún ìdúróṣinṣin ooru.
Sapphire (Al₂O₃): Ti a ti fi si 50 μm fun awọn ohun elo UV LED.

Àwọn Ẹ̀rọ Ètò Àkọ́kọ́

1. Ètò lílọ
Ẹ̀rọ Iṣẹ́ Amúlétutù Méjì: Ó ń so ìlọ tí ó nípọn/dínkù pọ̀ mọ́ ìlọ tí ó ní ìpele kan ṣoṣo, ó sì ń dín àkókò ìlọ náà kù sí 40%.
Ìfàsẹ́yìn Afẹ́fẹ́: Ìwọ̀n iyàrá 0–6000 rpm pẹ̀lú ìṣàn radial <0.5 μm.

2. Ètò Ìtọ́jú Wafer
Agbara ìfàmọ́ra: >50 N pẹlu iṣipopada ipo deedee ±0.1 μm.
Apá Rọ́bọ́ọ̀tì: Ó ń gbé àwọn wáfárì 4–12-inch ní 100 mm/s.

3. Ètò Ìṣàkóso
Ìṣàyẹ̀wò Lésà: Ìṣàyẹ̀wò sísanra àkókò gidi (ìpinnu 0.01 μm).
AI-Driven Feedforward: Ó sọ àsọtẹ́lẹ̀ ìbàjẹ́ kẹ̀kẹ́, ó sì ń ṣàtúnṣe àwọn pàrámítà láìsí àtúnṣe.

4. Itutu ati mimọ
Ìmọ́tótó Ultrasonic: Ó ń mú àwọn èròjà tí ó ju 0.5 μm lọ kúrò pẹ̀lú ìṣiṣẹ́ 99.9%.
Omi ti a ti yọ kuro ninu omi: O n mu wafer tutu si <5°C loke ayika.

Àwọn Àǹfààní Àkọ́kọ́

1. Ìpele Pípẹ́ Tó Gíga Jùlọ: TTV (Ìyípadà Pípẹ́ Lápapọ̀) <0.5 μm, WTW (Ìyípadà Pípẹ́ Láàárín Wafer) <1 μm.

2. Ìṣọ̀kan Onírúurú Ìlànà: Ó ń so ìlọ, CMP, àti ìfọ́ plasma pọ̀ mọ́ ẹ̀rọ kan.

3. Ibamu Ohun elo:
Silikoni: Idinku sisanra lati 775 μm si 25 μm.
SiC: Àṣeyọrí TTV tó kéré sí 2 μm fún àwọn ohun èlò RF.
Àwọn Wáfà tí a fi Dóóósì ṣe: Àwọn Wáfà InP tí a fi Dóóósì ṣe pẹ̀lú ìyípadà ìdènà àìsí 5%.

4. Automation Smart: Iṣọkan MES dinku aṣiṣe eniyan nipasẹ 70%.

5. Lilo Agbara: Lilo agbara dinku 30% nipasẹ bireki atunṣe.

Àwọn Ohun Èlò Pàtàkì

1. Àkójọpọ̀ Tó Tẹ̀síwájú
• Àwọn IC 3D: Fífúnpọ̀ Wafer ń jẹ́ kí a kó àwọn ërún logical/memory stop dúró ní inaro (fún àpẹẹrẹ, àwọn HBM stacks), tí ó ń mú kí bandwidth tó ga tó 10× àti agbára tí a dínkù tó 50% ní ìfiwéra pẹ̀lú àwọn ojutu 2.5D. Ẹ̀rọ náà ń ṣe àtìlẹ́yìn fún ìsopọ̀pọ̀ hybrid àti ìṣọ̀kan TSV (Through-Silicon Via), èyí tó ṣe pàtàkì fún àwọn ero isise AI/ML tí wọ́n nílò ìsopọ̀pọ̀ <10 μm. Fún àpẹẹrẹ, àwọn wafer 12-inch tí a ti dínkù sí 25 μm ń jẹ́ kí a kó àwọn fẹlẹfẹlẹ 8+ jọ nígbà tí a ń pa wíwọ́pọ̀ <1.5% mọ́, èyí tó ṣe pàtàkì fún àwọn eto LiDAR mọ́tò.

• Àpò ìfàfẹ́ẹ́: Nípa dídín ìwọ̀n wafer kù sí 30 μm, gígùn ìsopọ̀pọ̀ a dínkù sí 50%, èyí tí ó dín ìdádúró àmì kù (<0.2 ps/mm) tí ó sì ń mú kí àwọn chiplets tín-tín 0.4 mm ṣeé lò fún àwọn SoCs alágbékalẹ̀. Ìlànà náà ń lo àwọn algoridimu ìlọ tí a san owó fún láti dènà ogun (>50 μm ìṣàkóso TTV), èyí tí ó ń rí i dájú pé a lè gbẹ́kẹ̀lé wọn nínú àwọn ohun èlò RF onígbà púpọ̀.

2. Ẹ̀rọ itanna
• Àwọn Módù IGBT: Fífún sí 50 μm dín agbára ìgbóná kù sí <0.5°C/W, èyí tí ó mú kí 1200V SiC MOSFETs ṣiṣẹ́ ní ìwọ̀n otútù 200°C. Àwọn ohun èlò wa ń lo ìlọsíwájú onípele púpọ̀ (ìwọ̀n gígùn: 46 μm grit → fine: 4 μm grit) láti mú ìbàjẹ́ kúrò ní abẹ́ ilẹ̀, tí ó sì ń ṣe àṣeyọrí ju 10,000 cycles ti ìgbẹ́kẹ̀lé ìyípo ooru lọ. Èyí ṣe pàtàkì fún àwọn inverters EV, níbi tí àwọn wafer SiC tí ó nípọn 10 μm mú kí iyàrá ìyípadà sunwọ̀n síi ní 30%.
• Àwọn Ẹ̀rọ Agbára GaN-on-SiC: Wáfà tí ó dínkù sí 80 μm mú kí ìṣíkiri elekitironi (μ > 2000 cm²/V·s) pọ̀ sí i fún GaN HEMTs 650V, èyí tí ó dín àdánù ìfàsẹ́yìn kù ní 18%. Ìlànà náà ń lo dígí tí a fi lésà ṣe láti dènà ìfọ́ nígbà tí ó bá fẹ́rẹ̀, èyí sì ń mú kí ó dín síi ní ìwọ̀n etí 5 μm fún àwọn amplifiers agbára RF.

3. Optoelectronics​
• Àwọn LED GaN-on-SiC: Àwọn ohun èlò ìṣàpẹẹrẹ sapphire 50 μm mú kí iṣẹ́ ìyọkúrò ìmọ́lẹ̀ (LEE) sunwọ̀n síi sí 85% (ní ìfiwéra pẹ̀lú 65% fún àwọn wafers 150 μm) nípa dídín ìdènà àwọn photon kù. Ìṣàkóso TTV tí ó kéré gan-an (<0.3 μm) ti ohun èlò wa ń rí i dájú pé ìtújáde LED kan náà kọjá àwọn wafers 12-inch, èyí tí ó ṣe pàtàkì fún àwọn ìfihàn Micro-LED tí ó nílò ìwọ̀n ìgbì omi <100nm.
• Silicon Photonics: Àwọn wafer silicon tí ó nípọn 25μm mú kí àdánù ìtànṣán 3 dB/cm dínkù nínú àwọn waveguides, èyí tí ó ṣe pàtàkì fún àwọn transceivers optical 1.6 Tbps. Ìlànà náà ń so CMP smoothing pọ̀ láti dín ìfọ́ ojú ilẹ̀ kù sí Ra <0.1 nm, èyí sì ń mú kí ìṣiṣẹ́ ìsopọ̀ pọ̀ sí i ní 40%.

4. Awọn sensọ MEMS
• Àwọn ohun èlò ìfàsẹ́yìn: Àwọn ohun èlò ìfàsẹ́yìn sílíkọ́nì 25 μm máa ń ṣe àṣeyọrí SNR >85 dB (tí a bá fi wé 75 dB fún àwọn ohun èlò ìfàsẹ́yìn 50 μm) nípa mímú kí ìmọ̀lára ìyípadà ibi-ẹ̀rọ tó dájú pọ̀ sí i. Ètò ìlọ ẹ̀rọ onípele méjì wa máa ń san owó fún àwọn ìpele ìdààmú, èyí sì máa ń mú kí ìwọ̀n ìfàsẹ́yìn <0.5% wà lórí -40°C sí 125°C. Àwọn ohun èlò náà ni wíwá ìjamba ọkọ̀ ayọ́kẹ́lẹ́ àti títẹ̀lé ìṣísẹ̀ AR/VR.

• Àwọn Sensọ Ìfúnpá: Títẹ́jú sí 40 μm mú kí ìwọ̀n ọ̀pá 0–300 wà láàárín <0.1% FS hysteresis. Nípa lílo ìsopọ̀ ìgbà díẹ̀ (àwọn ohun èlò dígí), ìlànà náà yẹra fún ìfọ́ wafer nígbà tí a bá ń fi ẹ̀rọ gé ẹ̀yìn, èyí tí yóò mú kí àwọn sensọ IoT ilé iṣẹ́ lè fara da ìfúnpá <1 μm.

• Ìṣọ̀kan Ìmọ̀-ẹ̀rọ: Ohun èlò ìfọ́n wafer wa so ìfọ́n mechanical, CMP, àti plasma etching pọ̀ láti kojú onírúurú ìpèníjà ohun èlò (Si, SiC, Sapphire). Fún àpẹẹrẹ, GaN-on-SiC nílò ìfọ́n adàpọ̀ (àwọn kẹ̀kẹ́ dáyámọ́ǹdì + plasma) láti ṣe ìwọ̀n líle àti ìfẹ̀sí ooru, nígbà tí àwọn sensọ MEMS nílò ìfọ́n ojú ilẹ̀ tí ó wà ní ìsàlẹ̀ 5 nm nípasẹ̀ ìfọ́n CMP.

• Ipa Ile-iṣẹ: Nipa ṣiṣe awọn wafers tinrin ati iṣẹ ṣiṣe giga, imọ-ẹrọ yii n ṣe awakọ awọn imotuntun ninu awọn eerun AI, awọn modulu mmWave 5G, ati awọn ẹrọ itanna ti o rọ, pẹlu awọn ifarada TTV <0.1 μm fun awọn ifihan ti o le ṣe pọ ati <0.5 μm fun awọn sensọ LiDAR ọkọ ayọkẹlẹ.

Awọn iṣẹ XKH

1. Awọn solusan ti a ṣe adani
Àwọn Ìṣètò Tí Ó Lè Wà Púpọ̀: Àwọn àwòrán yàrá 4–12-inch pẹ̀lú ìgbéga/ìgbéga aládàáṣe.
Àtìlẹ́yìn fún Ìtọ́jú ...

2. Atilẹyin lati opin si opin
Idagbasoke Ilana: Idanwo ọfẹ n ṣiṣẹ pẹlu iṣapeye.
Ikẹkọ Kariaye: Awọn idanileko imọ-ẹrọ lododun lori itọju ati laasigbotitusita.

3. Ṣíṣe iṣẹ́ fún ọ̀pọ̀lọpọ̀ ohun èlò
SiC: Wafer tí ó ń dínkù sí 100 μm pẹ̀lú Ra <0.1 nm.
Sapphire: Sisanra 50μm fun awọn ferese lesa UV (gbigbe >92% @ 200 nm).

4. Awọn Iṣẹ Afikun-Iye
Ipese Lilo: Awọn kẹkẹ Diamond (2000+ wafers/igbesi aye) ati awọn slurries CMP.

Ìparí

Ohun èlò ìfọ́nrán wafer yìí ń pese ìṣedéédé tó ga jùlọ ní ilé iṣẹ́, onírúurú ohun èlò, àti ìdánilẹ́kọ̀ọ́ ọlọ́gbọ́n, èyí tó mú kí ó ṣe pàtàkì fún ìṣọ̀kan 3D àti ẹ̀rọ itanna agbára. Àwọn iṣẹ́ XKH tó péye—láti àtúnṣe sí iṣẹ́ lẹ́yìn—rí i dájú pé àwọn oníbàárà ṣàṣeyọrí ìnáwó àti iṣẹ́ tó dára jùlọ nínú iṣẹ́ semiconductor.

Ohun èlò ìfọ́mọ́ra wafer 3
Ohun èlò ìfọ́mọ́ra wafer 4
Ohun èlò ìfọ́mọ́ra wafer 5

  • Ti tẹlẹ:
  • Itele:

  • Kọ ifiranṣẹ rẹ si ibi ki o fi ranṣẹ si wa